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多功能集成封装技术与功率芯片清洗 - 合明科技

   日期:2023-06-07 10:34:10     来源:功率芯片清洗    作者:合明科技    浏览:95    
核心提示:多功能集成封装技术与功率芯片清洗,碳化硅器件的出现推动了电力电子朝着小型化的方向发展,其中集成化的趋势也日渐明显。瓷片电容的集成较为常见,通过将瓷片电容尽可能靠近功率芯片可有效减小功率回路寄生电感参数,减小开关过程中的震荡、过冲现象。

今天小编为大家带来一篇关于多功能集成封装技术与功率芯片清洗介绍~

一、多功能集成封装技术:碳化硅器件的出现推动了电力电子朝着小型化的方向发展,其中集成化的趋势也日渐明显。瓷片电容的集成较为常见,通过将瓷片电容尽可能靠近功率芯片可有效减小功率回路寄生电感参数,减小开关过程中的震荡、过冲现象。但目前瓷片电容不耐高温,所以并不适宜于碳化硅的高温工作情况。驱动集成技术也逐渐引起了人们的重视,三菱、英飞凌等公司均提出了 SiC 智能功率模块(intelligent power module,IPM),将驱动芯片以及相关保护电路集成到模块内部,并用于家电等设备当中。如图 13 所示,浙江大学团队通过将瓷片电容、驱动芯片和 1200V SiC 功率芯片集成在同一块 DBC 板上,使半桥模块面积仅为 TO-247 单管大小,极大地减小了驱动回路和功率回路的寄生电感参数。阿肯色大学则针对碳化硅芯片开发了相关的 SiC CMOS 驱动芯片以充分开发 SiC 的高温性能。

1-多功能集成封装技术与功率芯片清洗介绍,合明科技.jpg

此外,还有 EMI 滤波器集成,温度、电流传感器集成、微通道散热集成等均有运用到碳化硅封装设计当中。

二、功率芯片清洗:

针对功率芯片清洗、先进封装产品芯片焊后封装前,基板载板焊盘、电子制程精密焊后清洗的不同要求,合明科技在水基清洗方面有比较丰富的经验,对于有着低表面张力、低离子残留、配合不同清洗工艺使用的情况,自主开发了较为完整的水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封装到PCBA组件终端,包括有水基清洗剂和半水基清洗剂,碱性水基清洗剂和中性水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳,兼容的材料更为广泛;在同等的兼容性下,合明科技的清洗剂清洗的锡膏种类更多(测试过的锡膏品种有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;测试过的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,离子残留低、干净度更好。

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